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Nanotest TIFAS IR熱成像法失效分析儀

簡要描述：Nanotest是柏林熱管理材料表征和電子器件可靠性分析聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室的一員，該實(shí)驗(yàn)室與開姆尼茨工業(yè)大學(xué)、勃蘭登堡工業(yè)大學(xué)和弗勞恩霍夫協(xié)會(huì)電子納米系統(tǒng)研究所齊名，聚焦于熱管理材料表征和電子器件可靠性分析領(lǐng)域，是歐洲相關(guān)領(lǐng)域主要的儀器供應(yīng)商之一。
Nanotest TIFAS IR熱成像法失效分析儀

  • 產(chǎn)品型號(hào)：TIFAS-IR
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2023-02-20
  • 訪  問  量：1270
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詳細(xì)介紹

Nanotest  TIFAS IR熱成像法失效分析儀

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     當(dāng)熱量從器件發(fā)熱點(diǎn)（源）向環(huán)境中傳遞過程中，偶爾會(huì)遇到一些熱的阻礙物，通常這些熱阻礙物會(huì)非常嚴(yán)重的影響器件的可靠性。通過直接觀察熱的產(chǎn)生和其傳遞的路徑是發(fā)現(xiàn)這些缺陷癥狀的有效方法。

        TIFAS IR是一個(gè)高度集成的桌面型紅外熱成像法失效分析儀，可應(yīng)用于幾乎所有材料的失效分析。通過觀察電子器件、系統(tǒng)、復(fù)合物、多層聚合物或燒結(jié)零配件的全波段光譜來判斷其綜合結(jié)構(gòu)，如雜質(zhì)、缺陷以及形貌等。


技術(shù)參數(shù)：

測試時(shí)間：1-10 s

IR相機(jī)像素：382*288px (可提供更寬范圍)

觀測區(qū)域：95 mm x 123 mm(可提供更寬范圍)

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